研发过程里还出过岔子，有次项目快验收，一批技术人员被外企用双倍薪资挖走，核心技术差点跟着流失。

贺荣明赶紧立了规矩，员工做完项目必须写技术文档存进知识库。

这样一来，就算人走了，技术也能留得住。

熬了这么多年，SSA600终于亮相。

它用193纳米激光源，线宽控制在28纳米，每小时能处理上百片晶圆。

虽然比国际前沿的7纳米还差一截，但中端芯片生产完全够用。

中芯国际立马拿去做兼容性试验，中小代工厂也因为价格便宜愿意试用。

本来以为这是件扬眉吐气的事，没想到批评声先来了。

美荷批评的底气

中国这边刚有进展，荷兰和美国的声音就紧跟着来了。

荷兰3月8日正式声明，特定型号深紫外光刻机出口中国要许可。

美国更直接，同步更新实体名单，把更多供应商加了进去。

他们批评的焦点集中在技术来源上，美国智库拿出所谓的知识产权纠纷案例，说中国设备参数和现有产品重合，怀疑是逆向分析。

荷兰官员也在媒体上表态，说要遵守全球专利体系。

这种说法有点站不住脚，上海微电子早前就跟欧洲企业打过专利官司，对方恶意申请专利想堵死中国的路，最后被咱们找到破绽反诉成功，还把技术变成了自己的专利。

批评很快变成了实际限制，荷兰后来把更多型号和服务纳入管制，甚至禁止ASML给部分在华设备做维修。

美国还在背后施压，敦促荷兰停修敏感设备。

但ASML其实挺矛盾的，它2024年营收快到283亿美元，中国客户的订单占了两成。

CEO温宁克公开说，目前没理由不给中国客户提供服务。

这处境，确实有点两难。

博弈的本质

把这事往深了扒，美荷的批评根本不是为了什么专利保护，说白了就是怕丢了垄断地位。

全球芯片需求因为5G和AI一直在涨，中国市场占比不小，要是咱们自己能造光刻机，他们的高价设备卖给谁去？

但他们可能没料到，限制反而加速了中国的突破。

上海微电子2024年升级了软件，2025年又推出能支持7纳米多图案化的升级版设备。

不只是整机，材料方面也有进展。

八亿时空研发的KrF光刻胶树脂已经能稳定出货，厦门恒坤还和中科院合作推进高端光刻胶产业化。

原来的“卡脖子”环节，正在一个个被打通。

现在全球供应链都在变，亚洲其他国家开始调整策略，中小代工厂买不到ASML设备，就转头试用中国产的。

ASML虽然全球订单没少，但对华销售下滑是事实，荷兰议会里也有人争论这政策到底合不合算。

如此看来，这场批评风暴更像一场“垄断保卫战”。

美荷想靠设限保住技术优势，却忘了技术进步从来不是堵得住的。

中国光刻路确实还长，但从被说“给图纸也做不出”，到现在能把设备卖向东南亚，这脚步已经够稳了。

未来谁能笑到最后，怕是还真不好说。